삼성전자, 업계 최초 45나노 임베디드 플래시 로직 공정 개발삼성전자가 업계 최초로 45나노 임베디드 플래시(embeded Flash 혹은 eFlash, 플래시메모리 내장형) 로직 공정 개발과 이를 적용한 스마트카드 IC 테스트 칩 개발에 성공했다고 밝혔다. 임베디드 플래시 로직 공정은 데이터를 제어하고 처리하는 시스템 반도체 회로안에 데이터를 기억하는 플래시메모리 회로를 구현한 것으로 집적도와 전력효율을 높일 수 있어 가전, 모바일, 자동차 등 다양..
